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原子层沉积系统(ALD P-300 Pro)

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名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN™ ALD ALD P-300 Pro
PICOSUN™ ALD P-300 Pro:Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。

衬底尺寸和类型 最大300mm晶圆/单片
工艺温度 50 - 500 °C
基片传送选件 半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现
25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现
标准 SEMI S2认证
前驱体 液态,固态,气态,臭氧源
等离子体(仅供200mm晶圆使用,最多4路气体)
前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
6条独立源管线,最多加载8个前驱体源(最多12个前驱体源,加上plasma管路共7根独立源管线)
重量 820 kg
尺寸(W x H x D)
160 cm x 80 cm x 240 cm
选件 集群工具,PICOFLOW™扩散增强,N2发生器,尾气处理,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准 标准设备验收标准为Al2O3工艺,
其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能

PICOSUN™ 300 mm 生产线应用案例
集成电路组件 微机电系统
   氧化物间隔层    扩散阻挡层
   间聚介质    耐磨涂层
   高K栅介质    电荷耗散层
   隧穿氧化物薄膜    导热层
   氧化物阻挡层    导电种子层
   钝化层    刻蚀阻挡层
   间隙填充层    电绝缘层
   覆盖层    防摩擦层
   铜阻挡层和阻挡层    防粘着层
   粘附层    光学薄膜
   扩散阻挡层     生物兼容层
    点极     密封层
    金属化     纳米孔封堵层


其他 显示
    晶体管     钝化
    电容层     透明导电薄膜
    存储器     绝缘层
    读写磁头
如果您觉得这个产品适合您,请给我们留言,我们会第一时间与您联系!
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