PICOSUN™ ALD P-300 Pro保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求-北京正通远恒科技有限公司

名称：原子层沉积系统
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN™ ALD ALD P-300 Pro
PICOSUN™ ALD P-300 Pro：Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。

衬底尺寸和类型	最大300mm晶圆/单片
工艺温度	50 - 500 °C
基片传送选件	半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现 25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现
标准	SEMI S2认证
前驱体	液态，固态，气态，臭氧源等离子体（仅供200mm晶圆使用，最多4路气体）前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 6条独立源管线,最多加载8个前驱体源（最多12个前驱体源，加上plasma管路共7根独立源管线）
重量	820 kg
尺寸(W x H x D)	160 cm x 80 cm x 240 cm
选件	集群工具，PICOFLOW™扩散增强，N2发生器，尾气处理，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准	标准设备验收标准为Al₂O₃工艺，其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如： --不均匀性 --颗粒物含量 --重金属污染 --电学性能

PICOSUN™ 300 mm 生产线应用案例

集成电路组件	微机电系统
氧化物间隔层	扩散阻挡层
间聚介质	耐磨涂层
高K栅介质	电荷耗散层
隧穿氧化物薄膜	导热层
氧化物阻挡层	导电种子层
钝化层	刻蚀阻挡层
间隙填充层	电绝缘层
覆盖层	防摩擦层
铜阻挡层和阻挡层	防粘着层
粘附层	光学薄膜
扩散阻挡层	生物兼容层
点极	密封层
金属化	纳米孔封堵层

其他	显示
晶体管	钝化
电容层	透明导电薄膜
存储器	绝缘层
读写磁头

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原子层沉积系统（ALD P-300 Pro）