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行业应用

  • 阴极荧光SEM-CL在半导体金刚石方面的应用

    062024-03        由于金刚石的非凡性能,如极高的硬度,化学惰性,光学透明度,高导热性以及电绝缘,越来越多的应用领域认识到这种材料提供的好处。特别是在涉及极高功率密度、高机械负荷或恶劣磨料条件的应用中...

  • 原子层沉积(ALD)在半导体先进制程的应用

    302023-11         随着集成电路工艺技术的不断提高,晶体管的特征尺寸及刻蚀沟槽不断减小,沟槽及其侧壁的镀膜技术面临严峻的挑战,物理气相沉积(PVD)及化学气相沉积(CVD)工艺已经无法满足极小尺寸下良好的...

  • 阴极发光设备(SEM-CL)在光电与薄膜电池材料的针孔检测方面的应用

    182023-10        对于光伏(PV)和薄膜电池(TFB)来说,要在成本上与化石燃料和传统电池竞争,高制造成品率至关重要。CdTe/CdS和CdS/CIGS光伏器件的CdS层以及tbs的LiPON层的针孔导致良率损失和性能降低。扫描电...

  • 原子层沉积技术:基于化学视角

    122023-07 1、ALD表面化学机制:ALD是化学气相沉积(CVD)的一类变种,其基本原理是将气相前驱体以脉冲的形式交替通入反应腔体中,气相前驱体在基底表面发生化学吸附并进行自限制的表面化学反应,从而实现薄膜的原子层级别的生长(图1...

  • 钙钛矿(ALD)

    242023-04 “碳达峰”和“碳中和”一直都是能源领域的热点话题,作为助力“双碳”战略的生力军,光伏产业具有举足轻重的地位。目前光伏的主力是硅太阳能电池,它们具有效率高、稳定性好、产业链完备、使用寿命长的优势。然而,晶硅电池的转换...

  • 半导体

    242022-08 原子层沉积(ALD)技术凭借其独特的表面自限性生长原理,优异的共形性、大面积的均匀性,可适用于复杂三维表面沉积以及深孔洞均匀填隙生长等特点,受到半导体行业的青睐。 虽然与CVD相比,ALD存在产出低、成本高的缺点,然...

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