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脉冲激光沉积系统（Pioneer 180 Laser MBEPLD System）

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名称：脉冲激光沉积系统
品牌：Neocera
产地：美国
型号：Pioneer 180 Laser MBEPLD System

Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得最佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（>100 Torr）下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的最大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离，以达到最优的沉积条件。

	Pioneer240	Pioneer180	Pioneer120A
最大wafer 直径	8”	6”	2”
最大靶材数量	6 个1” 或3 个2”	6 个1” 或3 个2”	6 个1” 或3 个2”
压力(Torr) *	5*10^-8	5*10^-9	5*10^-9
真空室直径	24”	18”	12”
基片加热器	360°旋转	360°旋转	360°旋转
最高样品温度	850 ℃	850 ℃	950 ℃
Turbo 泵抽速* （liters/sec）	700 软件控制	400 软件控制	260 软件控制
计算机控制	包括	包括	包括
基片旋转	包括	包括	选件
基片预真空室	包括	选件	选件
扫描激光束系统	包括	选件	-
靶预真空室	包括	选件	-
IBAD 离子束辅助沉积	选件	选件	选件
CCS 连续组成扩展	选件	选件	-
高压RHEED	选件	选件	选件
520 liters/sec 泵	N/A	选件	-
... ...

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种“ 数字” 技术，在纳米尺度上进行工艺控制（Å/pulse）。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案

如果您觉得这个产品适合您，请给我们留言，我们会第一时间与您联系！

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