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脉冲激光沉积系统( Pioneer 120 Advanced PLD System)

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名称:脉冲激光沉积系统
品牌Neocera

产地:美国
型号Pioneer 120 Advanced PLD System

 

Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计,利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到最优的沉积条件。

项目 Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120A
最大wafer 直径
8”
6”
2”
最大靶材数量
6 个1” 或3 个2”
6 个1” 或3 个2”
6 个1” 或3 个2”
压力(Torr) *
5*10-8
5*10-9
5*10-9
真空室直径
24”
18”
12”
基片加热器
360°旋转 360°旋转
360°旋转
最高样品温度
850 ℃
850 ℃
950 ℃
Turbo 泵抽速*
(liters/sec)
700
软件控制

400
件控制

260
控制

计算机控制
包括 包括
包括
基片旋转 包括 选件
基片预真空室
包括 选件 选件
扫描激光束系统
包括 选件 -
靶预真空室
包括 选件 -
IBAD 离子束辅助沉积
选件 选件
选件
CCS 连续组成扩展

选件
-
高压RHEED



520 liters/sec 泵
N/A 选件 -
... ...


• 作为完整PLD 实验室解决方案供应商,我们还可提供:248nm 激光器(准分子、固体等),激光气体柜,激光器和光学器件 桌,以及光学器件等。
• 带* 的项目均可客户化。
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是一种“ 数字” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(Å/pulse)。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面卓越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
如果您觉得这个产品适合您,请给我们留言,我们会第一时间与您联系!
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