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北京正通远恒邀请您参加第十九届全国MOCVD学术会议

作者:北京正通远恒科技有限公司阅读量:


第十九届全国MOCVD学术会议将于2026年7月27日至29日内蒙古·呼和浩特隆重举行。北京正通远恒科技有限公司邀请您参加本次大会,并将携带公司优质产品同广大学术人士、企业人士共聚内蒙古·呼和浩特,我们在No.26号展台诚挚欢迎您的莅临,期待深入的交流探讨。

全国MOCVD学术会议是我国MOCVD生长技术与化合物半导体材料器件研发领域的重要交流平台。 自1989年首届会议召开以来,迄今已成功举办十八届。随着会议规模与影响力的持续扩大,该会议已发展为全国学术界与产业界广泛参与的学术盛会,为我国MOCVD领域的学术研究、技术进步及半导体产业发展作出了积极贡献。

第十九届全国MOCVD学术会议旨在系统探讨MOCVD领域的关键问题,推动产学研协同发展。会议将聚焦“材料生长、表征与装备”、“功率电子与射频器件”、“光电子器件与应用”、“超宽禁带半导体与前沿交叉”、“封装、应用及AI for MOCVD”等五大核心议题,以期为深化学术研讨、服务产业决策和促进技术交流提供重要支撑。

本次大会核心议题包括:

◇材料生长、表征与装备
◇功率电子与射频器件
◇光电子器件与应用
◇超宽禁带半导体与前沿交叉
◇封装、应用及AI for MOCVD

第十九届全国MOCVD学术会议:

主办单位「中国有色金属学会、国家第三代半导体技术创新中心(苏州)、第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)」

承办单位「中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、江苏省第三代半导体研究院、化合积电(呼和浩特)半导体科技有限公司、内蒙古大学、内蒙古工业大学、苏州纳维科技有限公司」

协办单位「南昌实验室、西安电子科技大学集成电路学部微电子学院、北京大学宽禁带半导体中心、西交利物浦大学先进半导体研究中心、苏州纳米科技发展有限公司、江苏省第三代半导体与高能效器件重点实验室」


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