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正通远恒联合芬兰Picosun Oy 赞助第四届ALD应用国际会议暨2018年中国ALD学术会议

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    “ 第四届ALD应用国际会议暨2018年中国ALD学术会议” (简称2018-CALD)是国内规模最大、级别最高的原子层沉积技术方面的综合性学术会议,将于2018年10月14日-17日在中国深圳举行。正通远恒联合芬兰Picosun Oy赞助此次盛会,并在现场设立展台,期待与五湖来宾共话ALD技术新风向。

       
PICOSUN 公司是一家为半导体及其它行业提供高质量薄膜制备技术的ALD供应商,提供敏捷的ALD解决方案,为公司发展提供创新驱动力。

       PICOSUN™ ALD设备型号包括高产量生产的全自动、符合半导体工业标准的批量及集群设备,低产量的研发ALD及小规模试产ALD。PICOSUN™ ALD拥有世界级的制程品质、先进的设备设计结构、以及最全面的制程支持及客户服务,可为客户提供经生产验证的IC、MEMS、III-V、LED、传感器及3D部件镀膜制程。


        快速 、高效 、可靠 、适应性强 是我们的服务宗旨!

        在此诚邀您莅临此次盛会,与世界各地高等学府的教授、学者共话ALD技术新动态,更多演讲嘉宾请参考:http://www.c-ald.com/Data/List/Keynote%20Speeches 。

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