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原子层沉积系统(ALD R-200 Advanced)

作者:北京正通远恒科技有限公司阅读量: 分享到:
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名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN™ ALD R-200 Advanced
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。


底尺寸和类型


50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

3D 复杂表面衬底

粉末与颗粒

多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品

Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm

工艺温度

50 – 500 °C, 可选更高温度

基片传送选件

气动升降(手动装载)

预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )

半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现
        25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现

前驱体

液态、固态、气态、臭氧源、等离子体(最多4路气体)

6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)

重量

350kg+ 200 kg

尺寸( W x H x D)

取决于选件

最小146 cm x 146 cm x 84 cm

最大189 cm x 206 cm x 111 cm

选件

集群工具,PICOFLOW™ 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,超高真空兼容,N2发生器,尾

气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载)

验收标准

标准设备验收标准为 Al2O3 工艺


客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm(6“和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料
非均匀性(1σ)
AI2O3 (batch)
0.13 %
SiO2 (batch)
0.77 %
TiO2
0.28 %
HfO2
0.47 %
ZnO
0.94 %
Ta2O5
1.0 %
TiN
1.10 %
CeO2
1.52 %
Pt
3.41 %



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