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原子层沉积系统(ALD P-300 Advanced)

作者:北京正通远恒科技有限公司阅读量: 分享到:
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名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN™ ALD P-300 Advanced
Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。

衬底尺寸和类型 156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背)
高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背)
大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬币,医疗植入部件,机械部件等)
粉末与颗粒
Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
多孔,通孔,与高深宽比(HAR)样品
工艺温度 50-500℃
基片传送选件 气动升降(手动装载)
半自动装载,用线性装载器实现
全自动转载,用工业机器人实现
前驱体 液态、固态、气态、臭氧源
前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
4根独立源管线,最多加载6个前驱体源
重量 400 + 300 kg
尺寸 (W x H x D)
149 cm x 191 cm x 111 cm
选件 PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺

客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm(6“和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料
非均匀性(1σ)
AI2O3 (batch)
0.13 %
SiO2 (batch)
0.77 %
TiO2
0.28 %
HfO2
0.47 %
ZnO
0.94 %
Ta2O5
1.0 %
TiN
1.10 %
CeO2
1.52 %
Pt
3.41 %
如果您觉得这个产品适合您,请给我们留言,我们会第一时间与您联系!
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