电话  010-64415767 | 010-64448295

首页>产品中心

原子层沉积系统( ALD P-200 Pro)

作者:北京正通远恒科技有限公司阅读量: 分享到:
  • 产品信息
  • 技术指标
  • 应用领域
  • 索取报价

名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN™ ALD PP-200 Pro

PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有最好的性能,完全满足您的需求。

 


衬底尺寸和类型 50 – 200 mm /单片
156 mm x 156 mm 太阳能硅片
150 mm x 150 mm 显示面板
工艺温度 50 - 500 °C , 可选更高温度
基片传送选件 气动升降(手动装载)
半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现
25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现
标准 SEMI S2 认证(认证中)
前驱体 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(最多4路气体):
前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)
重量 790 kg
尺寸 (W x H x D)
160 cm x 80 cm x 240 cm
可选件 集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与 工厂软件连接服务。
验收标准 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,
其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:
--不均匀性
--颗粒物含量
--重金属污染
--电学性能

PICOSUN™ 200mm 生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑,高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列Pro工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
如果您觉得这个产品适合您,请给我们留言,我们会第一时间与您联系!
姓名:
电话:
邮箱:
公司名称:
留言:
*
北京正通远恒科技有限公司      地址:北京市朝阳区胜古中路2号院7号楼A座611室      邮编:100029       京ICP备12001926号-1
Designed by Wanhu